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Photomask Japan 2026
Committees
As of June. 12th
Advisory Committee
Chair
| Tadahiro Takigawa | ALITECS Corporation | （Japan） |
Members
| Masato Shibuya | Tokyo Polytechnic University | （Japan） |
| Kazuyuki Suko | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | （Japan） |
| Yoshio Tanaka | D2S, Inc. | （Japan） |
| Naoya Hayashi | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | （Japan） |
| Morihisa Hoga | NAMTEC Co., Ltd. | （Japan） |
| Toshiyuki Horiuchi | Tokyo Denki University | （Japan） |
| Nobuyuki Yoshioka | Society of Semiconductor Industry Specialists | （Japan） |
Organizing Committee
Chair
| Takeo Watanabe | University of Hyogo | （Japan） |
Vice Chair
| Masaru Nakagawa | Tohoku University | （Japan） |
Members
| Soichi Inoue | Kioxia Corporation | （Japan） |
| Masaaki Kurihara | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | （Japan） |
| Hiroshi Kagotani | Sony Semiconductor Solutions Co. | （Japan） |
| Kokoro Kato | Synopsys, Inc. | （Japan） |
| Keita Shogase | SEMI Japan | （Japan） |
| Hiroshi Nakata | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | （Japan） |
| Noriaki Nakayamada | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | （Taiwan） |
| Masahiro Hashimoto | HOYA Corporation | （Japan） |
| Hideaki Hamada | HTL Co. Japan Ltd. | （Japan） |
| Kiyohito Yamamoto | Canon Inc. | （Japan） |
| Brian J Grenon | Grenon Consulting | （USA） |
| Jo Finders | ASML Netherlands B.V. | （Netherlands） |
| Warren Montgomery | MWM Strategic Development Solutions LLC. | （USA） |
| Jed Rankin | IBM Research | （USA） |
Auditors
| Fumio Aramaki | Hitachi High-Tech Corporation | （Japan） |
| Toshio Konishi | Tekscend Photomask Corp. | （Japan） |
Program Committee
Chair
| Noriaki Nakayamada | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | （Taiwan） |
Vice Chair
| Yusuke Kawano | Renesas Electronics Corporation | （Japan） |
| Daisuke Kenmochi | HOYA Corporation | （Japan） |
| Tetsuo Harada | University of Hyogo | （Japan） |
Members
| Shingo Ishida | Canon Inc. | （Japan） |
| Nobuhisa Imashiki | HOYA Corporation | （Japan） |
| Nobuhiro Okai | Hitachi High-Tech Corporation | （Japan） |
| Kokoro Kato | Synopsys, Inc. | （Japan） |
| Takashi Kamikubo | NuFlare Technology, Inc. | （Japan） |
| Kenji Go | Mycronic Technologies Corporation | （Japan） |
| Yosuke Kojima | Tekscend Photomask Corp. | （Japan） |
| Tomohiro Suzuki | Lasertec Corporation | （Japan） |
| Kazunori Seki | Tekscend Photomask Corp. | （Japan） |
| Yasunari Sohda | University of Tsukuba | （Japan） |
| Yasuko Tabata | Tower Partners Semiconductor Co., Ltd. | （Japan） |
| Takaharu Nagai | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | （Japan） |
| Hiroshi Nakata | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | （Japan） |
| Hiroyuki Nakano | Sony Semiconductor Solutions Co. | （Japan） |
| Takao Hayashi | JEOL Ltd. | （Japan） |
| Kazuya Fukuhara | Kioxia Corporation | （Japan） |
| Sanehiko Hoshi | D2S, Inc. | （Japan） |
| Takashi Yagami | Nikon Corporation | （Japan） |
| Jin Choi | Samsung Electronics Co., Ltd. | （Korea） |
| Thomas Faure | GlobalFoundries Inc. | （USA） |
| Thiago Figueiro | Applied Materials, Inc. | （USA） |
| Bryan Kasprowicz | HOYA Corporation | （USA） |
| Byung-Gook Kim | ESOL, Inc | （Korea） |
| Dong-Seok Nam | ASML US | （USA） |
| Thomas Scheruebl | Carl Zeiss SMT GmbH | （Germany） |
Steering Committee
Chair
| Soichi Inoue | Kioxia Corporation | （Japan） |
Vice Chair
| Kenji Go | Mycronic Technologies Corporation | （Japan） |
| Yosuke Kojima | Tekscend Photomask Corp. | （Japan） |
Members
| Yumiko Amano | Renesas Electronics Corporation | （Japan） |
| Kokoro Kato | Synopsys, Inc. | （Japan） |
| Yusuke Kawano | Renesas Electronics Corporation | （Japan） |
| Daisuke Kenmochi | HOYA Corporation | （Japan） |
| Hirofumi Kozakai | HOYA Corporation | （Japan） |
| Yasuko Saito | ASML Japan Co., Ltd. | （Japan） |
| Kiwamu Takehisa | Lasertec Corporation | （Japan） |
| Noriaki Nakayamada | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | （Taiwan） |
| Reiji Hirota | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | （Japan） |
| Koji Hosono | United Semiconductor Japan Co., Ltd. | （Japan） |
| Masahiko Yasuda | Nikon Corporation | （Japan） |
| Morihiko Ueno | JEOL Ltd. | （Japan） |
| James Wiley | Geminatio, Inc. | （USA） |