チュートリアル／Tutorial

in English

企画名	: “いまさら聞けない”フォトマスクの基礎知識
開催日時	: 2026年 4月 7日（火）14:00 - 17:30
開催場所	: パシフィコ横浜 アネックスホール
入場料	: 無料　※チュートリアル参加のみ
特記事項	: 同時英訳あります。

全体プログラム

※講師のお名前より、講師の情報やアブストラクトをご覧いただけます。（英文）

時間	講演内容	講師	講師所属
14:00 - 14:05	オープニング	中山田　憲昭	台湾積体電路製造股份有限公司
14:05 - 14:25	リソとマスクの基本	林　直也	大日本印刷株式会社
14:25 - 14:45	基板材料	岩本　健太郎	HOYA株式会社
14:45 - 15:05	レジスト材料	山本　慶	富士フイルム株式会社
15:05 - 15:25	半導体製造データ処理	加藤　心	日本シノプシス合同会社
15:25 - 15:45	描画	西村　理恵子	株式会社ニューフレアテクノロジー
15:45 - 16:00	休憩
16:00 - 16:20	エッチングプロセス	飯野　由規	芝浦メカトロニクス株式会社
16:20 - 16:40	CD/EPE計測	吉賀　洋史	株式会社日立ハイテク
16:40 - 17:00	検査	宮井　博基	レーザーテック株式会社
17:00 - 17:20	ペリクル	小野　陽介	三井化学株式会社
17:20 - 17:30	クロージング	中山田　憲昭	台湾積体電路製造股份有限公司

参加登録

注意書きをご確認いただき、下記ボタンよりお手続きをお願いいたします。
ガイダンスはこちらをご参照ください。

1．チュートリアル（4月7日(火)）のみご参加のかた

・個人情報をご登録いただいたのち、決済画面にて下記をご選択ください。
Category … April 7 Only
Option1 … Tutorial Session Entry (April 7)

・本メニューはチュートリアル（4月7日(火)）のみご参加いただけます。
4月8日から開始の本シンポジウムや展示会、バンケットへご参加希望のかたは、
Categoryでご自身の参加区分に基づくメニューをご購入をお願いいたします。

・本メニューはコングレスバッグ等のお渡しはございません。
　また、Option2 ならびに Option3のご選択はいただけませんためご注意ください。

2．4月8日以降の本シンポジウムもご参加のかた

・個人情報をご登録いただいたのち、決済画面にて下記をご選択ください。
Category … ご自身の会員区分に基づくメニュー
Option1 … Tutorial Session Entry (April 7)

・チュートリアル以降もネームカードを使用いたしますため着用をお願いいたします。

お問い合わせ先

Photomask Japan Secretariat
c/o PCO, Inc.
2-25 Sakurabashidori, Toyama, 930-0004
E-mail: pmj@pcojapan.jp