Tutorial On-Demand Streaming/チュートリアル配信

Photomask Japan 2026
Special Pre-event Program【Tutorial】/特別プレイベント企画【チュートリアル】

PMJ2026 offers the opportunity to provide Tutorial On-Demand Streaming for all PMJ2026 participants.
PMJ2026 では、PMJ2026へ参加された皆様へチュートリアルセッションのオンデマンド配信をいたします。

Note/注意事項

*Registration is required to access the streaming.
 視聴には参加登録が必要です。
*Registration for PMJ2026 is now closed (No new registrations are accepted).
 PMJ2026の参加登録は終了しております。(新規登録不可)
*Recording, redistribution and uploading of the video content are strictly prohibited.
 動画の録画および再配布・アップロードは固く禁止されております。

Tutorial Program Details / チュートリアルプログラム詳細

English
日本語

How to watch/視聴方法

Streaming period:June 1, 2026 - May 31, 2027
配信期間:2026年6月1日~2027年5月31日


1. Select the session and click the "Details" button from the list below.
  下記リストより視聴するセッションの「Details」ボタンをクリックします。
2. Log in to "SMART Conference."
  ログイン画面よりパスワードを入力します。
3. Access the video from “Archive Streaming.”
 「Archive Streaming」よりご視聴ください。
*You can switch between English and Japanese using the gear icon at the bottom right of the screen.
 視聴画面右下の歯車アイコンから日本語/英語の切り替えが可能です。

◆Guideline/視聴ガイドライン

Tutorial Program/チュートリアルプログラム

▽Alternatively, you may access each session by selecting the category boxes.
 下部のカテゴリー枠からも各セッションにアクセスいただけます。

Basic of Lithography and Mask
Mask substrate
Resist material
Data Processing in Semiconductor Manufacturing
Drawing
Etching process
CD/EPE Measurement
Inspection
Pellicle
Basics of Semiconductor Lithography and Photomask
リソとマスクの基本
リソとマスクの基本
Details
Date
April 07 (Tue.), 2026 14:05 - 14:25
Room
Annex Hall
Chairperson
T-1 Basics of Semiconductor Lithography and Photomask
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
T-1 Basics of Semiconductor Lithography and Photomask
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
Speaker
Naoya Hayashi(Dai Nippon Printing Co., Ltd.)
Mask substrate
基板材料
基板材料
Details
Date
April 07 (Tue.), 2026 14:25 - 14:45
Room
Annex Hall
Chairperson
T-2 Photomask Blank Technology: Fundamentals and Recent progress
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
T-2 Photomask Blank Technology: Fundamentals and Recent progress
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
Speaker
Iwamoto Kentaro(HOYA Corporation)
Resist material
レジスト材料
レジスト材料
Details
Date
April 07 (Tue.), 2026 14:45 - 15:05
Room
Annex Hall
Chairperson
T-3 History and challenges of photoresist material development
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
T-3 History and challenges of photoresist material development
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
Speaker
Kei Yamamoto(FUJIFILM Corporation)
Data Processing in Semiconductor Manufacturing
半導体製造データ処理
半導体製造データ処理
Details
Date
April 07 (Tue.), 2026 15:05 - 15:25
Room
Annex Hall
Chairperson
T-4 Basics of Semiconductor Manufacturing Data Processing
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
T-4 Basics of Semiconductor Manufacturing Data Processing
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
Speaker
Kokoro Kato(Synopsys)
Drawing
描画
描画
Details
Date
April 07 (Tue.), 2026 15:25 - 15:45
Room
Annex Hall
Chairperson
T-5 A History of E-Beam Mask Writers and Their Role in Semiconductor Manufacturing
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
T-5 A History of E-Beam Mask Writers and Their Role in Semiconductor Manufacturing
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
Speaker
Nishimura Rieko(NuFlare Technology, Inc.)
Etching process
エッチングプロセス
エッチングプロセス
Details
Date
April 07 (Tue.), 2026 16:00 - 16:20
Room
Annex Hall
Chairperson
T-6 Etching process
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
T-6 Etching process
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
Speaker
Yoshinori Iino(芝浦メカトロニクス(株) ファインメカトロニクス事業部 開発部)
CD/EPE Measurement
CD/EPE計測
CD/EPE計測
Details
Date
April 07 (Tue.), 2026 16:20 - 16:40
Room
Annex Hall
Chairperson
T-7 The Role of CD-SEM in Semiconductor Processes
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
T-7 The Role of CD-SEM in Semiconductor Processes
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
Speaker
Hiroshi Yoshiga(Hitachi High-Tech Corporation)
Inspection
検査
検査
Details
Date
April 07 (Tue.), 2026 16:40 - 17:00
Room
Annex Hall
Chairperson
T-8 Ensuring Nanoscale Quality through Photomask Inspection
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
T-8 Ensuring Nanoscale Quality through Photomask Inspection
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
Speaker
Hiroki Miyai(Lasertec)
Pellicle
ペリクル
ペリクル
Details
Date
April 07 (Tue.), 2026 17:00 - 17:20
Room
Annex Hall
Chairperson
T-9 History of Pellicles for Photomasks — Function, Materials, and Challenges
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
T-9 History of Pellicles for Photomasks — Function, Materials, and Challenges
Abstract・Speaker's Introduction/アブストラクト・講師情報:Here
Speaker
Yosuke Ono(Mitsui Chemicals, Inc.)
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